眾所周知，在晶片生產的環節中，光刻機是非常關鍵的一環，而我國正因為缺少高精度的光刻機，因此整個晶片產業的發展都受到了巨大的阻力。

事實上在晶片生產中，光刻機只是一款生產裝置，而生產晶片的關鍵材料，其實我國也存在著一大難題，這個難題便是光刻膠。

光刻膠是晶片製造過程中所需要的重要材料，但卻長期被日本企業所壟斷，價格和產能根本無法得到很好自主控制，特別是近年來我國晶片產業開始高速發展，對於光刻膠的需求就更加明顯了。

作為高值耗材的產品，我國每年都需要從海外大量進口光刻膠，隨著晶片工藝越來越複雜，出現了雙重曝光技術，甚至三重、四重技術，意味著製造單個晶片消耗的光刻膠也會增加。

有資料顯示，2019年我國g線/i線光刻膠的自給率僅有20%，KrF光刻膠自給率不足5%，ArF光刻膠則完全依賴進口，這顯然是不利於國內半導體產業發展的情況。

如果日企對我國進行出口限制，那影響將是巨大的，在這種情況下，自主研發光刻膠就成為了中國企業正在努力尋求突破的方向，所以近期以來，我們也頻頻聽聞了中國企業在光刻膠技術上取得的新突破。

近日傳來一則好訊息，繼中芯國際續單ASML光刻機後，上海新陽也釋出了公告，ASML-1400光刻機裝置於今日已進入合作方場地，很快將進入到安裝除錯等相關工作。

上海新陽採購ASML幹法光刻機，主要就是為了加快193nm ArF幹法光刻膠產品的開發，畢竟該公司早在2016年底，就已經在立項研發193奈米幹法光刻膠了。

不過在此後的很長一段時間裡，上海新陽卻遭遇到了重重挫折，直到2020年，該公司在光刻膠專案上的投入越發激進，主要也是受到了國家重視半導體產業的影響，如今終於傳來了好訊息。

按照上海新陽的計劃，若專案按進度進行，預計KrF厚膜光刻膠2021年開始實現少量銷售，2022年即可實現量產， ArF光刻膠也可在2022年實現少量銷售，2023年開始量產。

無獨有偶，前不久國內半導體材料公司晶瑞股份也釋出公告稱，在ASML公司手裡買到了一臺光刻機，裝置型號是XT 1900 Gi型ArF浸入式光刻機，主要生產最高解析度達28nm的高階光刻膠。

和上海新陽的情況非常相似，晶瑞公司購買這臺光刻機，也是為了研發出更高階的ArF光刻膠，如果進展順利的話，或許會將國產光刻膠產品序列實現到ArF光刻膠的跨越。

值得一提的是，目前晶瑞公司的KrF光刻膠也已進入到了客戶測試階段。

無論是上海新陽還是晶瑞公司，它們都已經實現了KrF光刻膠的小規模量產，這意味著國內的晶片產業即將迎來新曙光，至少在很多重要的環節上，已經取得了階段性的突破。

雖然現階段我們的半導體產業還很落後，但我始終堅信，只要中國企業能夠腳踏實地地幹下去，就必定可以打破海外的技術封鎖，實現半導體產業完全自主。