ASML的“好日子”已經漸行漸遠，倪光南院士的話在應驗！

在老美的相關限制啟動之後，位於荷蘭的ASML就逐步被世人所熟知，其主要工作就是生產光刻機，且還是唯一能夠生產EUV光刻機的廠商，對整個芯片市場的影響巨大。

用於成熟工藝製造的DUV光刻機，最多隻能支持10nm芯片的製造，製造7nm及以下工藝的芯片，就只能依賴於EUV光刻機，臺積電和三星能夠擁有如今地位，少不了ASML的支持。

但如今國際市場上不斷傳來新消息，皆是對ASML不利的，在老美的不斷壓迫之下，這“壟斷”的日子也不再好過了，“好日子”也漸行漸遠了，這究竟發生了什麼呢？ASML又該如何應對呢？

ASML遭遇的困境

根據最新的消息，臺積電方面已經宣稱，在年底將會關停部分EUV光刻機設備，而目的就是為了節省開支，據悉一臺EUV光刻機全負荷運行，一天就要用掉3萬度的電，年消耗量超過1000萬度。#EUV光刻機日耗電3萬度#

而這“省成本”的背後，卻是反映出了目前芯片產業的困境，先進工藝絕大部分被用於智能手機等等設備上，根據統計2022年第一季度全球僅出貨了3.112億臺手機，同比下滑超過了11%，第二季度繼續下滑到了2.92億臺。

目前臺積電有著80臺EUV光刻機，而三星有著50臺左右，超過90%以上的產能都在這兩家企業手上，隨著數碼產品的出貨量降低，先進芯片的需求自然也隨之減少，高通、聯發科等等廠商都在縮減訂單。

臺積電已經宣佈關停部分EUV設備，說明能夠給到三星的產能也將減少，這說明現有的EUV光刻機產能需求已經過剩了，需求量在降低，影響最大的自然就是靠賣設備為生的ASML了。

要知道前幾個月，EUV的產能還是供不應求的，為了獲取更多的產能，三星的負責人還親赴荷蘭的ASML總部，要求及時交付更多的EUV光刻機，但如今這樣的轉變著實讓人意外。

本身受到當前形勢的影響，在氖氣被斷供之後，ASML的實際產能已經受到了影響，無法按時交付客戶訂單，也讓其錯過了最佳的機會，面對如今市場環境的突然變化，EUV光刻機很有可能被迫庫存。

而倪光南院士很早之前就呼籲：“要把重心放在成熟工藝上！”中芯在照做之後可謂風生水起，然而臺積電卻反其道而行，過度執著於先進工藝，如今的處境可以說越來越難了，院士的話已經應驗了。

ASML該如何應對

在芯片法案還沒發佈之前，老美就曾找到ASML，要求其將對於芯片的限制範圍，有原本的EUV範疇調整為DUV範疇，深知中國市場重要性的ASML，當面拒絕了這樣的無理要求。

但也因此惹怒了老美，在全新芯片法案落地之後，就有一條專門針對ASML的限制，那就是先進工藝範疇被調整為了28nm以下，隨後其負責人也正式宣佈，針對中國市場的芯片設備限制，將由原本的10nm提升至14nm，很顯然目的就是為了阻止DUV光刻機的進口。

受到先進工藝需求量的減少，EUV光刻機的銷量肯定受影響，如果就連DUV光刻機也無法出口，那麼ASML的實際經營肯定會遇到困境，畢竟中國已經成為了全球第三大光刻設備市場。

而這一次ASML負責人態度這麼決絕，也足以看出問題的嚴重性了，此前全球缺芯缺的也是成熟工藝，而先進工藝芯片一直都是有庫存的，而成熟工藝的市場需求佔到了90%以上，所以這也是國內院士呼籲成熟工藝中國產化的原因。

除了面對產能縮小的事實之外，ASML也不斷面臨著外部的壓力，在中科院的領銜下，中國產光刻機距離量產僅有一步之遙，而日企佳能、尼康也恢復了光刻機的研發，也宣告著ASML的光刻機並非不可替代。

而相比於研發光刻機，目前各個國家更想擺脫“光刻機依賴”，已經在新材料以及新工藝上下足了功夫，美日研發的NIL工藝，已經被證實不使用EUV光刻機的情況下，可以實現5納米以下工藝，同樣華為、臺積電研發的堆疊工藝，都在影響著光刻機的地位。

除此之外光電子芯片、碳基芯片等等技術，都已經取得了重大的突破，一旦技術成功實現了商用，就意味著已經能夠擺脫光刻機實現芯片製造了，所以才會說ASML的“好日子”已經漸行漸遠了，對此你們是怎麼看的呢？