隨著第三次科技革命的到來，晶片成為工業製造最高水平的代表，半導體領域成為各國競爭最為激烈的存在。就目前而言，美國佔據著國際半導體行業榜首的存在，也正因為此，美國從晶片製造方面出手，想要置華為與死地，從而遏制中國在5G、人工智慧等高階領域的發展。不過中國向來都是一個不服輸的國家，在這種情況下，任正非號召全體華為員工迎難而上，保持艱苦奮鬥的華為精神，中科院、北大、清華等高等院校紛紛伸出援手，對光刻機技術的攻克，將成為中國未來發展的關鍵之一。

今年7月份，中科院發表了一篇關於當下最先進晶片5nm工藝製備技術的介紹，立刻引起了國內巨大反響，許多人認為在美國全面封鎖下，我國短時間就獲得了巨大突破。然而就在大部分國人歡呼雀躍之時，中科院緊急闢謠：國產5nm光刻技術，假的！中科院此次發表的雖然是關於5nm晶片製程工藝技術的，但是這並不代表中科院就已經掌握了5nm晶片工業。

國產5nm光刻技術，假的？中科院緊急闢謠。該篇論文中主要闡述的是在光掩膜上獲得了重大突破，而光掩膜只是晶片製程中的一部分。同時中科院表示，就目前中國工藝水平來看，完全掌握的技術僅僅只有180nm工藝的水平。

當然了，這裡需要解釋一下的是，中科院官宣的這個180nm，指的是包括光源等一系列技術在內，全部都是國產，與外國絲毫不會產生聯絡的情況下。如果在光源上選擇進口的話，將會直接來到90nm工藝水平。不過這個光源也不是最符合要求的，否則應該會更高。所以綜合來看，目前我們最需要突破的技術就是當下已極紫外光外代表的光刻機光源問題了。

對於這一官方訊息，無數人是感動不可思議的，畢竟180nm與5nm之間差得遠了。當然了，這也並不能說明中科院此前發表的關於這片5nm工藝的論文沒有絲毫作用。我們上面提到過，該文章主要闡述的是5nm工藝中的光掩膜技術，而光掩膜其實是光刻過程中覆蓋在晶片初始原料晶圓上的重要物質，沒有光掩膜，可以說就根本沒有晶片。

而晶片工藝越高，對於光掩膜的要求自然也就越高。目前的光掩膜主要分為低端、中端以及高階三種，目前大家攻克的方向主要就是高階。我們此次關於5nm工藝光掩膜技術的攻克，其實就是當下最高階的代表。同時這也在表明，我們的晶片技術又前進了一大步，雖然整體依然停留在180nm，但是一旦實現關鍵攻克，那麼包括光掩膜在內已經準備就緒的其他技術，將直接幫助中國晶片製造工藝迎來飛速的發展。

中科院的官宣雖然帶給了我們不少失望，但其成就依然是實實在在的。而且不只是中科院，當下我國在半導體方面可謂是捷報頻傳。比如此前荷蘭光刻機供應商ASML宣佈加大在華投資，中芯國際、紫光國芯等半導體企業在晶片製造單一方面的重大突破，都表示中國晶片在呈現前所未有的欣欣向榮之勢。正如比爾蓋茨所預言的那樣，美國此次對中國的打壓，不是在遏制中國的發展，其實是在幫助我們發展，置之死地而後生，人類在面臨困苦艱難之下，才能爆發出更強大的生命力。

對此，你有著怎樣的看法呢？