擋不住？ASML已經加速了出貨光刻機

光刻機是芯片的重要生產設備，臺積電、三星、英特爾等公司，都在為自己的產品而瘋狂。

資料表明，ASML的EUV光刻機有半數已出貨並裝配至臺積電；

三星公司的老總，為了採購更先進的光刻機，甚至還去了荷蘭的ASML總部，將EUV光刻機的生產基地，搬到了韓國。

ASML發佈了EUV光刻機之後，英特爾就開始了接二連三的訂單，ASML也將EUV光刻機的升級版，交給了英特爾。

不過，因為芯片等方面的限制，EUV光刻機不能運回國內，就連中國的外資工廠，也被限制了生產。

正因為如此，ASML才會想方設法，讓自己的產品，可以自由出貨，這對ASML沒有任何好處，反而會讓其他廠家，加快他們的發展。

除此之外，ASML也明確表示，將會為國內的生產廠家提供所需的技術，並且會在國內建立一個新的研究中心。

最重要的是，ASML公司正在加快光刻機的發貨速度，根據最新的數據，他們已經將78臺DUV光刻機，以及其他的設備，都是在今年一季度生產出來的。

隨著裝運的加速，國內也已超過美國，成為ASML的第三大銷售市場。在這種形勢下，ASML公司將會進一步加大對光刻機的出口速度的要求。

ASML並沒有給出任何的回覆，從目前的情況來看，ASML並不打算再限制他們的發貨了。

所以，有媒體說，ASML已經在加快光刻機的生產速度了。當然，像光刻機這樣的設備，ASML也會加快發貨速度。

首先，市場的競爭壓力日益增大，如果ASML不能及時發貨，將會為時已晚。

NIL工藝、封裝工藝、疊層工藝等等，都有一個共同點，那就是可以製造出高性能的芯片，而不需要先進的光刻機。

以NIL技術為例，即使不採用EUV光刻機，也能將芯片生產規模縮減到5nm以上，更重要的是，佳能等公司正在籌劃將這項技術推向世界。

三星、臺積電等7nm以上的芯片，都是使用EUV光刻機，NIL技術一旦推廣開來，EUV光刻機的銷售肯定會受到很大的影響。

其次，核心缺失過多，A壓力過大。

ASML的光刻機產量本來就不多，再加上德國工廠失火，氖氣供應受阻，ASML的光刻機產量也是大打折扣。

而現在，芯片短缺問題日益突出，甚至連光刻機的供貨商都受到了影響，臺積電也開始主動抬高價格，以求儘快交貨。

ASML方面也說了，在接下來的兩年內，光刻機的供應將會非常緊張，至少要等到2024年。

在這種情況下，ASML必須加快供貨速度，提高芯片的產能，讓光刻機的供給量得到進一步的釋放，同時也解決了光刻機的短缺問題。

最後，國內的光刻機，也有了長足的發展。

ASML之所以加快了對光刻機等設備的發貨速度，也是因為國內的光刻機技術突飛猛進。從資料上看，國產光刻機佔據了全國80%的份額，佔據了全世界40%的封裝光刻機。

這意味著，等國產高端的光刻機進入市場之後，ASML想要進入中國，將會變得非常困難。

事實上，國內的企業在曝光技術、浸潤系統等領域都有了突破性的進展，國內的企業成為世界上第三個掌握193納米ArF的準分子激光技術，而我國的8代浸潤系統也獲得了成功。

這也就意味著，國產芯片的技術，已經被華夏的製造商們，開發出了最先進的光刻機，ASML的生產，也就順理成章了。