美媒：ASML已經開始有些“出格”了

ASML是世界上最頂尖的光刻機制造商，他們的產品，已經佔據了中、高端的市場。

ASML的光刻機技術，主要是利用了美國的技術，比如曝光系統，還有臺積電和三星的大量數據，讓ASML對技術進行了優化。

這也是ASML公司生產EUV光刻機後，無法量產的原因，華夏公司已經下了訂單，但還沒有到賬。

由於芯片等方面的限制，ASML公司的DUV光刻機無法出口，特別是美公司的DUV光刻機和其他設備，中國的EUV光刻機也無法出口。

但是到了2022年，這種狀況已經有了很大的改變。

以前，ASML一直希望免費上市，但是一直在叫囂，沒有采取任何實際行動。現在ASML已經加快了DUV光刻機等設備的發貨速度。

根據統計，ASML在今年一季度，已經將23臺DUV光刻機送到了國內，這個數量已經超過了以往的發貨速度。

畢竟DUV的DUV光刻機，已經有五十多臺了。

此外，ASML官方宣佈，新一代HighNAEUV光刻機將於2023年上市，並於2024年進行測試。

ASML的這番話，無疑是在向所有人表明，EUV光刻機將在2024年上市。

畢竟，隨著新一代HighNAEUV光刻機的問世，EUV光刻機已經不是最尖端的技術了，所以瓦森納協議對EUV光刻機也沒有任何的約束。

更重要的是，ASML官方已經確定，將在國內建立一個研發中心，增加200個研發團隊，並且將在國內建立一個維護中心。

據悉，上述舉措均可視為EUV光刻機的免費裝運。

在這種情況下，國外媒體紛紛指責ASML“出格”了，不但加快了DUV光刻機的供貨速度，而且還暗示了EUV光刻機即將上市的消息。

ASML之所以會這樣，也是有一定道理的，因為ASML本身就是一家生產光刻機的公司，主要的利潤，還是通過出售光刻機。

由於芯片等規則被反覆修改，導致ASML的出貨量大打折扣，在美國內等市場低迷，ASML也不得不將重心轉移到其他領域。

根據統計，國內市場已經超越美國，成為ASML的第三大市場，佔據了14%以上的份額，這還是在ASML無法自由出貨的前提下，如果ASML能夠自由出貨，那後果就很明顯了。

此外，ASML無法自由出貨，也使得許多廠商紛紛開發新技術，減少對ASML光刻機的依賴性。

比如NIL製程、臺積電等的先進封裝技術、蘋果、華為等都在關注疊層技術。

可以說，以上幾種技術都極大地減少了對EUV光刻機的依賴，NIL技術可以使其在不使用EUV光刻機的前提下，將其壓縮到5nm以內。

而採用先進的封裝技術，則可以讓芯片的性能提高40%，而採用層疊技術，則可以讓芯片的多核心性能得到成倍的提高。

最重要的是，國內的光刻機技術發展得很快，曝光系統、浸潤系統等，都已經準備好了，據說，國內的光刻機，正在進行測試。

在這種情況下，ASML必須加快DUV光刻機的生產速度，同時也要加快EUV光刻機的批量生產，因為ASML的新技術、新設備，很有可能會取代ASML。