美媒：ASML已經基本“定局”了

可惜的是，ASML公司在開發EUV光刻機之後，就受到了瓦森納協議的限制，無法量產，而國內的EUV光刻機，也已經全部採購完畢，但還沒有收到。

隨著芯片的修改，ASML也不能隨意發貨，EUV光刻機甚至不能向中國的外資工廠供貨，只有在特殊的供應商手中，DUV光刻機才會出現。

因為限制ASML的生產，對其他廠家來說，並沒有太大的幫助，甚至會讓其他廠家，在接下來的十年裡，都會被淘汰。

到了2022年，ASML的態度發生了很大的轉變，它沒有發表任何意見，而是採取了行動。

據瞭解，ASML在國內的DUV光刻機等設備的裝運速度明顯加快，僅今年一季度，就有23部出口到了國內，大大超過了以往的同期。

此外，ASML還披露，新一代HighNAEUV光刻機的樣機將於2023年完工，並預計於2024年交付給各廠家進行測試。

這就意味著ASML將在2024年按照瓦森納的協議，免費提供EUV光刻機。

事實上，ASML也在為2024年到2025年的時候，將EUV光刻機的量產做好充分的準備，一是為了擴大EUV光刻機的產能，二年內可以量產115臺；

另一方面，ASML公司也打算在2025年將EUV光刻機的使用率提高到60%，並且宣佈將在國內建立一個研究中心，並將建立一個維護中心。

ASML之所以能加快出貨速度，也是因為ASML是光刻機行業的龍頭，ASML佔據了世界的中高檔市場，如果ASML可以自由出貨，那麼ASML就能佔據更大的市場。

而且，國內市場也超過了美國，達到了ASML的14%，這還是在無法自由運輸的前提下。

更何況，英特爾並沒有放棄在中國建立自己的工廠，臺積電、三星、SK海力士等公司，都在國內擁有大量的工廠，正在進行產能提升、工藝升級，所以他們對光刻機等設備的需求，也越來越大。

其次，隨著新技術的不斷湧現，ASML將會減少對ASML光刻機的依賴性，ASML不能大量出口，就會有更多的新技術被取代。

NIL技術可以在不使用EUV光刻機的前提下，將芯片的生產規模縮減到5nm，而採用先進的封裝技術和層壓技術，可以讓芯片的性能提高40%，或者是成倍的提高。

華為等公司，也在研究更先進的光刻技術，這是一種超越了美芯片技術的技術。

而曝光系統的生產和生產基地，已經在全國範圍內進行了，這也是為了大規模量產國產光刻機。

畢竟，國內的光刻機，佔據了全國八成的份額，而隨著國產光刻機的生產，他們也能在華夏佔據更大的份額。到時候ASML光刻機的銷量，必然會下降。