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美媒:ASML已經基本“定局”了

可惜的是,ASML公司在開發EUV光刻機之後,就受到了瓦森納協議的限制,無法量產,而國內的EUV光刻機,也已經全部採購完畢,但還沒有收到。

隨著芯片的修改,ASML也不能隨意發貨,EUV光刻機甚至不能向中國的外資工廠供貨,只有在特殊的供應商手中,DUV光刻機才會出現。

因為限制ASML的生產,對其他廠家來說,並沒有太大的幫助,甚至會讓其他廠家,在接下來的十年裡,都會被淘汰。

到了2022年,ASML的態度發生了很大的轉變,它沒有發表任何意見,而是採取了行動。

據瞭解,ASML在國內的DUV光刻機等設備的裝運速度明顯加快,僅今年一季度,就有23部出口到了國內,大大超過了以往的同期。

此外,ASML還披露,新一代HighNAEUV光刻機的樣機將於2023年完工,並預計於2024年交付給各廠家進行測試。

這就意味著ASML將在2024年按照瓦森納的協議,免費提供EUV光刻機。

事實上,ASML也在為2024年到2025年的時候,將EUV光刻機的量產做好充分的準備,一是為了擴大EUV光刻機的產能,二年內可以量產115臺;

另一方面,ASML公司也打算在2025年將EUV光刻機的使用率提高到60%,並且宣佈將在國內建立一個研究中心,並將建立一個維護中心。

ASML之所以能加快出貨速度,也是因為ASML是光刻機行業的龍頭,ASML佔據了世界的中高檔市場,如果ASML可以自由出貨,那麼ASML就能佔據更大的市場。

而且,國內市場也超過了美國,達到了ASML的14%,這還是在無法自由運輸的前提下。

更何況,英特爾並沒有放棄在中國建立自己的工廠,臺積電、三星、SK海力士等公司,都在國內擁有大量的工廠,正在進行產能提升、工藝升級,所以他們對光刻機等設備的需求,也越來越大。

其次,隨著新技術的不斷湧現,ASML將會減少對ASML光刻機的依賴性,ASML不能大量出口,就會有更多的新技術被取代。

NIL技術可以在不使用EUV光刻機的前提下,將芯片的生產規模縮減到5nm,而採用先進的封裝技術和層壓技術,可以讓芯片的性能提高40%,或者是成倍的提高。

華為等公司,也在研究更先進的光刻技術,這是一種超越了美芯片技術的技術。

而曝光系統的生產和生產基地,已經在全國範圍內進行了,這也是為了大規模量產國產光刻機。

畢竟,國內的光刻機,佔據了全國八成的份額,而隨著國產光刻機的生產,他們也能在華夏佔據更大的份額。到時候ASML光刻機的銷量,必然會下降。

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