EUV的光刻機關鍵技術，迎突破後，終於明白了ASML為什麼“變臉”了

EUV的製作難度有多大？正如ASML的工程師所說，即便是中國拿到了光刻機的設計圖，中國也做不到。

雖然ASML也提到過類似的事情，但也有過“變臉”的時候。不久前ASML表示，中國不可能自主仿製出最先進的光刻機技術。他原本以為，ASML還是一如既往的自信。但實際上，ASML在說出這句話的時候，卻是給了他一個臺階下。中國的科學家們，總是在做著實驗。

《半導體學報》日前刊登了中國半導體行業2021年度十大科研成果。根據資料上的資料，高鵬研究員團隊在北大電子顯微鏡實驗室裡，已經將掃描-透射電子顯微鏡技術運用到了極致。這一技術打破了傳統工藝的限制，使EUV光鏡加工更加精確。這也就意味著，在EUV光刻機的核心技術上，又有了新的突破。

好在中國的研究機構和半導體公司，已經在EUV光刻機的三大關鍵技術上取得了突破性的進展。所以，現在的情況對我們來說是一個好消息。畢竟，隨著技術的普及，我們的EUV光刻機也會越來越近，到時候ASML在EUV光刻機上的霸主地位，也就指日可待了。這也就不奇怪了。

在他看來，這項技術的突破，關係到華為和中芯公司的“命運”。

而華為麒麟的問題，就在於我們有自己的EUV光刻機。如果EUV光刻機成功了，華為的麒麟芯片也能重新出現在世人面前，這對華為的發展，無疑是一件好事。

雖然中芯國際的代工能力越來越強，但在EUV光刻機上，中芯國際的發展速度並沒有那麼快，這也是為什麼中芯國際在技術上落後於臺積電和三星的原因。但如果EUV光刻機被攻克，EUV光刻機被中芯國際收購，再加上樑孟松等人的支持，中芯國際的芯片代工能力將會得到極大的提升。到了那個時候，中芯國際的情況，就會變得不一樣了。

所以，他們都認為，這項技術的突破，關係到華為和中國的未來。總之，我們的EUV光刻機，已經有了很大的發展空間。只要有足夠的技術人員，中國生產的EUV光刻機，很快就會問世。