一是種類不同，尼康曝光機和光刻機的種類是不同的。

二是意思不同，曝光機是將芯片的制作圖案投影到芯片板上的設備，光刻機是將芯片板上的圖案製成芯片成品的設備。

三是功能不同，曝光機的功能是投影，光刻機的功能是製造產品。

尼康的曝光機與光刻機在功能和用途上有一定區別。總的來說，曝光機主要用於菲林圖形的曝光，而光刻機則用於制作菲林和其他的光學器件。

曝光機：曝光機是一種將菲林圖形轉移到線路板材上的設備。它的主要功能是通過光源和光學系統將菲林圖形投射到線路板材上，從而實現線路板材的曝光。曝光機通常用於線路板製造領域。

光刻機：光刻機是一種制作菲林和光學器件的設備。它通過光源和光學系統將設計好的圖形投射到光學器件上，並使用化學溶液將圖形刻劃出來。光刻機通常用於製造光學器件、半導體器件等領域。

總的來說，曝光機和光刻機在功能和用途上有一定的差異。曝光機主要用於線路板材的曝光，而光刻機則更加通用，可以用於制作菲林和其他的光學器件。

尼康曝光機和光刻機都是半導體製造中的關鍵設備，但它們的功能和作用不同。

尼康曝光機主要用於半導體芯片生產的光刻工藝中，它利用光刻膠對芯片進行曝光和形成影像，是製造芯片中的一個重要步驟。它可以在精度要求較低的情況下，實現對芯片的快速曝光，從而提高製造效率。此外，尼康曝光機還用於製造其他高精度光學元件，如LCD等。

光刻機則是半導體製造過程中的關鍵設備之一，主要用於將芯片的電路圖案轉移到硅片或其他襯底上。它通過光源照射和光刻膠的蝕刻來形成從芯片上刪除不需要的部分，從而形成最終的芯片電路圖案。光刻機的品質和精度對半導體芯片製造的成本、產量和質量都有著重要的影響。因此，高端光刻機是半導體製造工業中最關鍵的設備之一。

尼康曝光機和光刻機都是半導體產業中用於製造芯片的重要設備，但是在具體的操作和作用上存在一些區別。

尼康曝光機是一種基於投影光學原理的設備，主要用於將芯片上的電路圖樣“投影”到硅片上進行製造。尼康曝光機的主要作用是在光罩與硅片之間形成一條非常薄的光學焦點線，通過精密的機械運動和光學透鏡的對焦來使圖案對準以進行曝光。尼康曝光機制造芯片的精度非常高，可以到達納米級別。

光刻機也是一種製造芯片的設備，是尼康曝光機的一種衍生技術。光刻機與尼康曝光機相比需要更高的精度，因為它能夠製造更小和更準確的圖案。光刻機主要通過在硅片上噴射光線來製造芯片，然後使用化學方法來形成電路。精度可以達到亞納米級別，可以在像素之間創造出更清晰、更準確的圖案。