很多年前就有專家說能生產和國際水平一樣的芯片！還有院士參與，結果就是把國外芯片的標誌磨了。希望這次不是假新聞

90納米（nm）光刻技術的商用化時間可以追溯到大約20世紀90年代末和21世紀初。具體來說，英特爾和其他先進晶圓製造公司在2000年左右推出了首批90nm工藝節點的產品。

光刻機是半導體工業中的關鍵設備，用於將電路圖案投射到硅片上。隨著微電子技術的發展，光刻機也不斷進行改進和升級。雖然我無法提供確切的時間線，但從2000年開始的那個時期，90nm光刻技術逐漸成為主流，併為後續更小工藝節點的發展打下了基礎。

需要注意的是，光刻技術的發展是一個持續演進的過程，各種改進、突破和創新相繼發生。因此，具體的商用化時間線可能還受到許多因素的影響，如研發進展、市場需求和行業競爭等。

總而言之，90nm光刻技術可以追溯到20世紀末和21世紀初，但對於該技術問世的具體時間，請參考相關資料和專業文獻以獲取更準確和詳細的信息。

你好，90nm光刻機問世的時間是2003年左右。在2003年，ASML公司首次推出了ArF光刻機，可以實現90納米的製程工藝。這一突破標誌著半導體製造技術邁入了90納米時代。

2007年。早在2007年的時候，上海微電子就已經造出了90nm的光刻機樣機，但是足足用了9年才將其量產。

90nm光刻機問世的時間是在2003年左右。在當時，半導體工業的發展迅速，需要更高分辨率的光刻機來滿足生產需求。90nm光刻機的問世，使得半導體芯片的製造工藝得以進一步提昇，實現更小、更快、更節能的芯片設計。

這一技術的問世，也為半導體工業的發展奠定了堅實的基礎，為後續的製造工藝提供了重要的支持。