利用高速電子打在光刻膠表面，改變其化學性質。

熱發射可通過高溫加熱陰極材料，使電子獲得能量逸出。

場發射將陰極置於高強度電場中，利用電場對電子的強作用力使電子脫離原子核的束縛。

直寫式電子束的曝光原理直接打在光刻膠表面，加工方式靈活，適合小批量器件的光刻。

實際應用更為廣泛。

1. 電子束光刻機原理是利用電子束照射的方式，在硅片上形成需要的芯片圖案，是半導體製造中不可或缺的重要工具。
2. 具體來說，電子束光刻機使用電子槍發射出來的電子束，經由磁透鏡系統進行加速和聚焦後，將電子束照射到靈敏的感光材料上，根據光刻膠的特性，在感光材料上形成所需要的芯片圖案。
3. 通過電子束光刻機，我們可以實現半導體芯片上亞微米級別的圖案製備，從而滿足高集成度、高處理速度、低功耗等近年來信息技術領域對芯片製造工藝的高度要求。

電子束光刻機利用電子束照射在掩膜模式上進行投影，然後通過聚焦系統進行照射縮小投影成芯片上的微小結構，從而實現芯片或其他半導體器件製造。
1.電子束光刻機的原理是利用電子束進行投影，實現微小結構的製造。
2.電子束髮射器發射出的電子束會經過一些光學系統的聚焦和軌跡控制，使控制點上的電荷得以累積。
電子束照射時，會讓陽極上方的抗反射塗層形成反射鏡，將電子束反向反射，然後再次經過聚焦系統投影到半導體芯片上進行光刻。
3.電子束光刻機在製造微型電子元器件和芯片中具有非常重要的作用，現代電子行業重要的基礎設施之一，並且在納米技術、光子學等方面也得到了廣泛的應用。

電子束光刻機是一種高精度圖形製備設備，其原理為：1. 利用高能電子束在陰極上的求電場下加速和聚焦，然後通過光刻光學系統，經過掩膜或EBL，將精確定義的圖形轉移至被刻蝕的半導體材料上。
2. 由於電子波長很短， e- e-之間相互作用力遠強於光波的作用，故電子束光刻機比傳統光刻機分辨率更高，其制作的器件尺寸更小、更加精細，在微電子領域得到廣泛應用。
3. 電子束光刻機不僅可以用於半導體微電子器件的製造，還可以應用於微機械系統、激光光學和生物醫學等領域。
然而，該設備成本高、刻蝕速率慢、製造過程複雜，因此對操作人員的技術和經驗要求較高。