上海微電子已經研發出了11nm的光刻機。

最頂尖的光刻機比“兩彈一星”難造，是全世界頂尖技術的薈萃

光刻機被譽為”人類工業CROWN上的明珠“不是沒有道理的。

有人這樣形容光刻機：這是一種集合了數學、光學、流體力學、高分子物理與化學、表面物理與化學、精密儀器、機械、自動化、軟體、影象識別領域頂尖技術的產物。

最先進的光刻機上有10w個零件，（一輛汽車大概是5000個零件）。

所以說尖端光刻機的製造沒你想得那麼簡單，這根本就不是一國之力可為的，荷蘭不行，美國同樣不行！

在一臺尖端光刻機上你會看到全世界各國頂尖技術的薈萃：德國提供蔡司鏡頭技術裝置，日本提供特殊複合材料，瑞典的工業精密機床技術，美國提供控制軟體、電源等等等等，任何一國都不具備光刻機所要求的全部頂尖技術。

世界上每一個國家都不能依靠自己製造出先進的光刻機，現在的高階光刻機是許多個國家共同合作的結果，可惜中國不在這個集體內。

從這個角度考慮，光刻機真的比兩彈一星難。

要說我們國家的研製能力，雖說起步比較晚，不過追趕的速度一直很快。比如說在五六十年前我們知道只要落後就會捱打，於是研製出了原子彈。充分可見我們的研發速度一直很快，也有這個研發的實力。可是到了現在，又一個“科技落後”的情況下，我們卻遲遲研發不出光刻機技術，這到底是為什麼呢？小編認為有2個原因，一起看看吧。

從表面上來說，是因為兩個技術研製的難易程度完全不同。原子彈的製造工藝，只需要有原料以及清楚必備的條件以及相關的物理引數等等，就可以製造出來。最重要的是，那個時候我們有參照物，所以在先輩們的努力之下，可以研製出來。不過光刻機並不相同，原理雖說也很簡單，只要在金屬的表面進行一層光刻膠的覆蓋，用固定的形狀將光線照進去進行光刻膠的溶解，就可以自動形成晶片所需的電路。不過，問題是我們連一個參照物都沒有，完全就是瞎抹黑，所以研製了這麼久的時間，我們還停留在14nm的量產技術上，和他國拉開了很大的差距。

從實際上來說，兩個技術研製的背景並不相同。那個時候，“落後要捱打”可是實實在在的捱打，是更多的人會失去生命，失去家庭的捱打。所以他們只有一條路，那就是加快速度研製出新的武器，只有這樣才可以保證更多的人活下去。說白了就是已經刀尖到了胸口的壓力，不管這個事情到最後能不能，都必須要能。可光刻機的技術現在的背景又不一樣了，雖說各大企業都知道，如果我們沒有自己的核心技術，那麼我們將在科技上被其他國家“霸凌”。現在的華為被美方壓著打就是很好的例子。可就算如此，刀尖還沒有到自己的身上，這壓力總歸沒有這麼大，所以研製的速度相對慢了一點。

我們國家不是沒有研製光刻機，只不過還沒有七奈米光刻機而已。二十八奈米光刻機已經研製出來了。國內百分之八十的光刻機都是中國產的。只不過沒那麼先進而已。假以時日相信我們就會趕上並且超越國際先進水平。