美國政府中止了光刻機研發。
原因是1982年，美國政府禁止將電子芯片出口到日本，要求美國公司在美國境內製造芯片，但是當時美國沒有發展出適合自己使用的光刻技術，導致美國的電子產業落後於日本。
美國政府因此投資光刻機的研發，但在1996年因為預算問題中止了該項研究計劃，導致美國在光刻技術上依然落後於其他國家。
值得一提的是，1995年，荷蘭公司ASML推出了第一台商業化的光刻機，該技術現在已成為半導體行業中最重要的先進製造技術之一，ASML也成為了該領域的領導者。